在光刻胶的生产上,我国主要生产PCB光刻胶,LCD光刻胶和半导体光刻胶生产规模较小,2015年据统计我国光刻胶产量为9.75万吨,其中中低端PCB光刻胶产值占比为94.4%,半导体和LCD光刻胶分分别占比1.6%和2.7%,严重依赖进口。
纵观市场,光刻胶化学品生产壁垒高,国产化需求强烈。化学结构特殊、保密性强、用量少、纯度要求高、生产工艺复杂、品质要求苛刻,生产、检测、评价设备投资大,PR11500A1光刻胶哪里有,技术需要长期积累。
至今光刻胶化学品仍主要被被日本合成橡胶(JSR)、东京应化(TOK)、住友化学、美国杜邦、美国futurrex、德国巴斯夫等化工寡头垄断。
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光刻胶:用化学反应进行图像转移的媒介
光刻胶具有光化学敏感性,其经过曝光、显影、刻蚀等工艺,可以将设计好的微细图形从掩膜版转移到待加工基片。
光刻胶和集成电路制造产业链的前端的即为光刻胶化学品,生产而得的不同类型的光刻胶被应用于消费电子、家用电器、信息通讯、汽车电子、航空航天等在内的各个下游终端领域,需求较为分散。
光刻胶基于应用领域不同一般可以分为半导体集成电路(IC)光刻胶、PCB光刻胶以及LCD光刻胶三个大类。其中,PCB光刻胶占市场24.5%,半导体IC光刻胶占市场24.1%,LCD光刻胶占市场26.6%。
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