公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
通过金属化过程,在硅衬底上布置一层仅数纳米厚的金属层。然后在这层金属上覆上一层光刻胶。这层光阻剂在曝光(一般是紫外线)后可以被特定溶液(显影液)溶解。使特定的光波穿过光掩膜照射在光刻胶上,可以对光刻胶进行选择性照射(曝光)。然后使用前面提到的显影液,溶解掉被照射的区域,这样,光掩模上的图形就呈现在光刻胶上。通常还将通过烘干措施,改善剩余部分光刻胶的一些性质。
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光罩(英文:Reticle,Mask),在制作IC的过程中,利用光蚀刻技术,在半导体上形成图型,为将图型於晶圆上,光罩,必须透过光罩作用的原理,类似于冲洗照片时,利用底片将影像至相片上。
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在刻画时,采用步进机刻画(stepper),其中有电子束和激光之分,激光束直接在涂有铬层的4-9“玻璃板上刻画,边缘起点5mm,与电子束相比,其弧形更逼真,线宽与间距更小。光掩膜有掩膜原版(reticlemask,也有称为中间掩膜,reticle作为单位译为光栅),用步进机重复将比例缩小到mastermaks上,应用到实际曝光中的为工作掩膜(working mask),工作掩膜由master mask复i制过来。
光刻版厂-湖州光罩由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司(www.szphotomask.com)是一家从事“光电材料,光刻掩膜版”的公司。自成立以来,我们坚持以“诚信为本,稳健经营”的方针,勇于参与市场的良性竞争,使“苏州制版”品牌拥有良好口碑。我们坚持“服务为先,用户至上”的原则,使苏州制版在光电子、激光仪器中赢得了众的客户的信任,树立了良好的企业形象。特别说明:本信息的图片和资料仅供参考,欢迎联系我们索取准确的资料,谢谢!