正胶PR1-2000A1技术资料
正胶PR1-2000A1是为曝光波长为365或者436纳米，可用于晶圆步进器、扫描投影对准器、近程打印机和接触式打印机等工具。PR1-2000A1可以满足对附着能力较高的要求，NR2625000P光刻胶报价，在使用PR1-2000A1时一般不需要增粘剂，如HMDS。
相对于其他的光刻胶，NR26 25000P光刻胶哪里有，PR1-2000A1有如下的一些额外的优势：
PEB，不需要后烘的步骤；
较高的分别率；
快速显影；
较强的线宽控制；
蚀刻后去胶效果好；
在室温下有效期长达2年。
NR9-3000PYNR26 25000P光刻胶
光刻胶底膜处理：清洗：清洁干燥，NR2625000P光刻胶价格，使硅片与光刻胶良好的接触。烘干：去除衬底表面的水汽，使其干燥，增粘处理(涂底)：涂上增加光刻胶与硅片表面附着能力的化合物，HMDS，光刻胶疏水，Sio2空气中，Si-OH， 表面有，亲水性，使用HMDS（H2C）6Si2NH涂覆，熏蒸 与 SI –OH结合形成Si-O-Si(CH2)2，与光刻胶相亲。
美国Futurrex的光刻胶
北京赛米莱德贸易有限公司供应美国Futurrex新型lift-off光刻胶NR9-3000PY，NR2625000P光刻胶，此款负胶的设计适用于比较宽的波长范围和i线（366纳米）曝光工具。当显影后显示出负的侧壁角度，是lift-off工艺中比较简易的光刻胶。和其他胶相比NR9i-3000PY有下面的优势：1. 比较高的光刻速度，可以定制光刻速度来曝光产量 2. 比较高的分辨率和快的显影时间 3. 根据曝光能量可以比较容易的调整侧壁角度4. 耐温可以达到100摄氏度 5. 用RR5去胶液可以很容易的去胶NR9-3000PY的制作和工艺是根据职业和环境的安全而设计。主要的溶剂是，NR9-3000PY的显影在水溶液里完成。属固含量（%）：31-35主要溶剂： 外观： 浅液体涂敷能：均匀的无条纹涂敷 100摄氏度热板烘烤300秒后膜厚涂敷自旋速度40秒自旋。
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