何为光刻胶
光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种具有光化学敏感性的功能性化学材料，由光引发剂、光刻胶树脂、单体（活性稀释剂）、溶剂和其他助剂组成的对光敏感的混合液体，其中，树脂约占50%，单体约占35%。
它被称为是电子化工材料中技术壁垒较高的材料之一，主要利用光化学反应将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上，被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，下游主要用于集成电路、面板和分立器件的微细加工，同时在LED、光伏、磁头及精密传感器等制作过程中也有广泛应用。
按照下游应用，光刻胶可分为半导体用光刻胶、LCD用光刻胶、PCB（印刷线路板）用光刻胶等，其技术壁垒依次降低。
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光刻胶的应用
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模拟半导体（AnalogSemiconductors）发光二极管（Light-Emitting DiodesLEDs）微机电系统（Microelectromechanical Systems MEMS）太阳能光伏（SolarPhotovoltaics PV）微流道和生物芯片（Microfluidics &Biochips）光电子器件/光子器件（Optoelectronics/Photonics）封装（Packaging）
光刻胶的成分
树脂:光刻树脂是一种惰性的聚合物基质 ，是用来将其他材料聚合在一-起的粘合剂。光刻胶的粘附性、胶膜厚度等都是树脂给的。
感光剂:感光剂是光刻胶的核心部分，他对光形式的辐射能，特别在紫外区会发生反应。曝光时间、光源所发射光线的强，NR93000P光刻胶厂家，度都根据感光剂的特性选择决定的。
溶剂:光刻胶中容量较大的成分，感光剂和添加剂都是固体物质，为了方便均匀的涂覆，要将他们加入溶剂进行溶解，形成液态物质，NR93000P光刻胶哪里有，并且使之具有良好的流动性，可以通过选择方式涂布在waf er表面。
添加剂:用以改变光刻胶的某些特性，如改善光刻胶发生反射而添加染色剂。
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