v液体光致抗蚀剂感光的有效波长为300—400nm，因此对干膜和液体光致阻焊剂进行曝
光的设备亦可适用于湿膜曝光，曝光量100—300mJ／平方里米。
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因为烘烤后膜层的硬度还不足1H，因此曝光对位时需特别小心，以防划伤。虽对湿膜适用
的曝光量范围较宽，但为了增加膜层的抗蚀和抗电镀能力，以取高限曝光为宜。其感光速度与干膜相比要慢得多，所以要使用高功率曝光机。
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当曝光过度时，正相导线图形易形成散光侧蚀，造成线宽减小，反之负相导线图形形成散光扩大，线宽增加。当曝光不足时，膜层上出现、砂眼等缺陷。
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?由于用于设计和工模具的固定成本更低，适合于中小批量产品生产。
?设计更改容易。
?出样周期短，能尽快投产。
?可选用元器件(基片和外贴元器件)，例如；±0．1％电阻器、 ± 1％电容器、低TCR齐 纳二极管。
?能将不同工艺的元器件混合组装，使设计灵活性更好。
?允许返工，便于以合理的成品率生产复杂的电路，并且允许适当的返修。
4. 电位器">电位器的主要参数
电位器">电位器的主要参数有标称阻值、额定功率、分辨率、滑动噪声、阻值变化特性、耐磨性、零位电阻及温度系数等。{{分页}}
(1) 电位器">电位器的标称阻值和额定功率
① 电位器">电位器上标注的阻值叫标称阻值。
② 电位器">电位器的额定功率是指在直流或交流电路中，当大气压为87~107kPa，在规定的额定温度下长期连续负荷所允许消耗的功率。线绕和非线绕电位器">电位器的额定功率系列入表2所示。
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