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CMOS工艺制造过程

⒈。CMOS工艺

CMOS工艺采用轻掺杂的N型衬底制备PMOS器件。为了做出N型器件，必须先在N型衬底上做出P肼，在p肼内制造NMOS器件。

典型的P肼硅栅CMOS工艺从衬底清洗到中间测试，总共50多道工序，需要5次离子注入，连同刻钝化窗口，双目摄像头模组，共10次光刻。下面结合主要工艺流程来介绍P肼硅栅CMOS集成电路中元件的形成过程。

⑴光1——光刻肼区，刻出肼区注入孔。

⑵肼区注入及推进，形成肼区。

⑶去除SiO2，长薄氧，长Si3N4

⑷光2——反刻有源区（光刻场区），反刻出P管、N管的源、漏和栅区。

⑸光3——光刻N管场区，刻去N管区上的胶，露出N管场区注入孔。N管场区注入，以提高场开启，减 少闩锁效应及改善肼的接触。

⑹长场氧化层，摄像头模组，出去Si3N4，车载摄像头模组，再飘去薄的SiO2，长栅氧化层。

⑺光4——光刻P管区。p管区注入，调节PMOS管的开启电压，长多晶硅。

⑻光5——反刻多晶硅，形成多晶硅栅及多晶硅电阻。

⑼光6——光刻P+区，刻去P管及其他P+区上的胶。P+区注入，形成PMOS管的源、漏区及P+保护环。

⑽光7——光刻N+区，刻去N+区上的胶。N+区注入，形成NMOS管的源、漏区及N+保护环。

⑾长PSG

⑿光8——光刻引线孔。可在生长磷硅玻璃后先开一次孔，再磷硅玻璃回流及结注入推进后再开第二次孔。

⒀光9——反刻铝引线。

⒁ 光10——光刻压焊块。

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CMOS电路原理

CMOS，全称Complementary Metal OxideSemiconductor，即互补金属氧化物半导体，是一种大规模应用于集成电路芯片制造的原料。采用CMOS技术可以将成对的金属氧化物半导体场效应晶体管（MOSFET）集成在一块硅片上。该技术通常用于生产RAM和交换应用系统，监控摄像头模组，在计算机领域里通常指保存计算机基本启动信息（如日期、时间、启动设置等）的ROM芯片。

CMOS由PMOS管和NMOS管共同构成，它的特点是低功耗。由于CMOS中一对MOS组成的门电路在瞬间要么PMOS导通、要么NMOS导通、要么都截至，比线性的三极管（BJT）效率要高得多，功耗很低。

深圳一念间数码科技告知您，如何分辨真假模拟摄像机模组

       在模拟摄像机模组模组群体中，已出现了一些价格便宜并且宣传具有高清功能的产品，那么此类产品与专业级高清网络摄像机模组区别在哪里呢？这个问题，可能是市场上很多用户与工程集成商很想了解的。

       其实，很多便宜的号称模拟摄像机模组只是模拟摄像机加上网络模块将视频图像编码到720P分辨率输出，而真正的高清网络摄像机模组的含义远远不止于此。有的高清网络摄像机模组是以静态图像像素来宣传而不是以动态视频分辨率来宣传，如500万像素的摄像机模组，实际上只可以抓拍几张500万像素的图片，其动态视频图像分辨率一般也只有百万像素。甚至有些厂商以D1分辨率冒充高清，这需要采购者谨慎选购。

       从成本和应用角度看，价格较低的模拟摄像机模组一般采用低端的处理芯片和COMS感光器件，成像效果很差。价格较便宜的模拟摄像机模组功能简单，一般多为一些规模较小实力不强的厂商在原厂方案的基础上稍加修改而来，不能提供更为专业的服务和支持。而专业功能较齐全的模拟摄像机模组厂商花费了较多精力进行深入开发，可满足不同层次的客户需求，有完善的产品质量检测技术能力。在软件上也能提供较为完善的服务和支持，比如完整的高清解决方案、客户端软件、小型平台软件、能对接电信级监控平台等等。

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